單晶硅長晶爐控制特色
發布者:晶泰電器發布日期:2017-06-27點擊量:2835
本控制系統以國際先進單晶爐控制核心技術為基礎,融入單晶爐使用廠家多年的使用經驗,設計、開發出的一套全新的更可靠、更安全實用的單晶生長爐。
1、采用高分辨率雙CCD直徑控制系統(200萬像素以上),使單晶直徑控制精度達到0.1mm以內;
2、高精度、高穩定的爐壓控制系統,采用三只不同量程的壓力真空計,配合高精度調節閥,使壓力控制精度更高更準更穩定;
3、一鍵式全自動控制,無需很專業經驗的拉晶人員即可快速完成操作,從“抽真空、檢漏、壓力化、化料、穩定、穩定/籽晶浸入、引晶、放肩、轉肩、等徑、收尾、停爐冷卻”整個拉晶過程實現全自動一鍵式控制;
4、工藝參數編輯、修改提供兩種模式,使用者可自行選擇:
1) 可由個人PC上進行編輯、修改后直接下傳到工業 PLC;
2) 可在工業PLC上直接進行編輯、修改并保存,并可上傳到個人PC進行備份; 方便客戶更直觀的進行工藝參數管理。
5、獨特的設備維護界面,數字、模擬量I/O一目了然,并進行實時監控,在設備出故障時,可通過維護I/O監控界面快速的判斷故障所在位置,提高維護效率;
6、增加“隔離、清洗”自動程序,在拉晶過程中發生斷苞吊出或再加料過程中完成自動操作,使操作更安全、方便;
7、采用高精度編碼器替代通用的電位器位置控制,使籽晶行程、坩堝行程位置控制精度更高、更安全;
8、具有晶體長度及重量雙重控制,使拉晶過程更安全、可靠;
9、可根據客戶要求全面兼容抽真空三閥、二閥控制系統;
10、過程曲線可根據拉晶不同狀態上客戶自行選擇,可實時同時監控5條曲線;
11、拉晶過程中各數據及其變化的歷史均以電子文檔的形式記錄在案,方便客戶進行分析及工藝修改,實現生產檔案管理;
12、采用高精度紅外高溫計,控制精度達到0.1SP
13、水流量檢測報警系統,為單晶爐的安全運行提供了保障;
14、氬氣自動控制系統,可根據工藝來設定氬氣流量,若爐子壓力出現異常時自動切斷氬氣注入,防止爐子正壓而造成的安全隱患;
15、CE控制柜,在外部供電停止時,除加熱器電源外,UPS整機供電系統,保證了自動程序不會由于電力中斷而停止運行,不會因短暫的停電而使單晶爐自動過程復位帶來的損失;同時也給停電后采取的應急措施提供了寶貴的時間。
16、數據采集采用以太網傳輸,免費為客戶提供以太網接口,方便客戶進行網絡監控及工藝傳輸。
1、采用高分辨率雙CCD直徑控制系統(200萬像素以上),使單晶直徑控制精度達到0.1mm以內;
2、高精度、高穩定的爐壓控制系統,采用三只不同量程的壓力真空計,配合高精度調節閥,使壓力控制精度更高更準更穩定;
3、一鍵式全自動控制,無需很專業經驗的拉晶人員即可快速完成操作,從“抽真空、檢漏、壓力化、化料、穩定、穩定/籽晶浸入、引晶、放肩、轉肩、等徑、收尾、停爐冷卻”整個拉晶過程實現全自動一鍵式控制;
4、工藝參數編輯、修改提供兩種模式,使用者可自行選擇:
1) 可由個人PC上進行編輯、修改后直接下傳到工業 PLC;
2) 可在工業PLC上直接進行編輯、修改并保存,并可上傳到個人PC進行備份; 方便客戶更直觀的進行工藝參數管理。
5、獨特的設備維護界面,數字、模擬量I/O一目了然,并進行實時監控,在設備出故障時,可通過維護I/O監控界面快速的判斷故障所在位置,提高維護效率;
6、增加“隔離、清洗”自動程序,在拉晶過程中發生斷苞吊出或再加料過程中完成自動操作,使操作更安全、方便;
7、采用高精度編碼器替代通用的電位器位置控制,使籽晶行程、坩堝行程位置控制精度更高、更安全;
8、具有晶體長度及重量雙重控制,使拉晶過程更安全、可靠;
9、可根據客戶要求全面兼容抽真空三閥、二閥控制系統;
10、過程曲線可根據拉晶不同狀態上客戶自行選擇,可實時同時監控5條曲線;
11、拉晶過程中各數據及其變化的歷史均以電子文檔的形式記錄在案,方便客戶進行分析及工藝修改,實現生產檔案管理;
12、采用高精度紅外高溫計,控制精度達到0.1SP
13、水流量檢測報警系統,為單晶爐的安全運行提供了保障;
14、氬氣自動控制系統,可根據工藝來設定氬氣流量,若爐子壓力出現異常時自動切斷氬氣注入,防止爐子正壓而造成的安全隱患;
15、CE控制柜,在外部供電停止時,除加熱器電源外,UPS整機供電系統,保證了自動程序不會由于電力中斷而停止運行,不會因短暫的停電而使單晶爐自動過程復位帶來的損失;同時也給停電后采取的應急措施提供了寶貴的時間。
16、數據采集采用以太網傳輸,免費為客戶提供以太網接口,方便客戶進行網絡監控及工藝傳輸。
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